Интернет-магазин My-shop.ru
Акции   
Персональный раздел v
   Доставка    Оплата    Скидки    Форум    Помощь
для Москвы  +7 (495) 638-53-38
бесплатно для РФ  +7 (800) 100-53-38
 
0
ЛЕТНЯЯ РАСПРОДАЖАТысячи нужных, полезных и просто классных товаров со скидкой до 30% ждут вас! Как выбрать товары из распродажи.СКИДКИ ДО 30%
Технологии микроэлектроники. Химическое осаждение из газовой фазы

Технологии микроэлектроники. Химическое осаждение из газовой фазы

Авторы/составители: Киреев В.Ю., Столяров А.А.
Издательство: Техносфера
Серия: Мир электроники

Проведена классификация процессов и оборудования химического осаждения из газовой фазы (ХОГФ), используемых в технологии производства интегральных микросхем (ИМС), и показаны тенденции их развития. Приведены основные характеристики элементов микроструктур ИМС, получаемых в процессах ХОГФ, а также технологические характеристики самих процессов и используемых реагентов. Рассмотрены параметры оборудования для реализации процессов ХОГФ и проведен анализ его возможностей, достоинств и недостатков при осаждении функциональных слоев микросхем. Приведены основные электрофизические характеристики осаждаемых пленок.
Для инженеров-технологов и научных работников, использующих в своей практической работе химическое осаждение пленок из газовой фазы. Книга может быть полезна также студентам старших курсов, аспирантам и преподавателям ВУЗов.

139 руб.
в наличии*
ориентировочная дата отгрузки: 31.07.2017 (Пн.)
шт.
отложить
дата выпуска2006 г. 
языкрусский
количество томов1
количество страниц192 стр.
переплеттвердый
формат60x90/16 (145x215 мм)
ISBN5-94836-039-3, 978-5-94836-039-3
тираж1500 экз.
стандарт16 шт. 
возрастная категория18+ (нет данных)
код системы скидок25
код в My-shop.ru152569
Бестселлеры раздела...