Образование, учебная литература / ВУЗовская литература / Физика / Научные издания, теории, монографии, статьи, лекции

Ионная и фотонная обработка материалов

Комаров Фадей Фадеевич, Константинов Станислав Валерьевич

Код товара: 4863952

(0 оценок)Оценить

ОтзывНаписать отзыв

ВопросЗадать вопрос

1 / 2

PDF

Нет в наличии

Доставим в

г. Москва

Курьером

бесплатно от 3 500 ₽

В пункт выдачи

от 155 ₽

бесплатно от 10 000 ₽

Точная стоимость доставки рассчитывается при оформлении заказа

Издательство:

Вышэйшая школа

Год издания:

Описание

Характеристики

Изложены современные представления о физике взаимодействия ионных пучков с твердыми телами, рассмотрены вопросы образования и отжига дефектов кристаллической решетки, формирование заданных профилей распределения легирующих атомов. Приведены данные о современном оборудовании, используемом для ионной и фотонной обработки материалов, а также для изменения свойств ионно-имплантированных слоев. Рассмотрены приложения ионной и фотонной обработки в современных технологиях микроэлектроники и твердотельной электроники.
Для студентов учреждений высшего образования, изучающих физику полупроводниковых материалов, физику твердого тела, физическую электронику, микроэлектронику, методы математической физики.

количество томов

количество страниц

246 стр.

переплет

Твёрдый переплёт

размеры

207x147x17 мм

цвет

Голубой

тип бумаги

офсетная (60-220 г/м2)

ISBN

978-985-06-3395-8

возрастная категория

вес

384 г

код в Майшоп

4863952

Содержание

Глава 1. Особенности и возможности метода
ионной имплантации
Глава 2. Лагранжиан замкнутой системы
частиц
Глава 3. Классическое движение иона в
центральном поле
Глава 4. Потенциалы ионно-атомного
взаимодействия
Глава 5. Сечения рассеяния
Глава 6. Сечение неупругого торможения
Глава 7. Пробеги ионов. Профили
распределения ионов и выделенной энергии
Глава 8. Метод моментов распределений
Глава 9. Распределение пробегов ионов в
двухслойных структурах
Глава 10. Имплантация атомами отдачи
Глава 11. Распределение примесей и
Радиационных дефектов при ионной
имплантации через окна в маске
Глава 12. Влияние эффекта каналирования на
пробеги ионов
Глава 13. Профили распределения атомов
имплантированных примесей при высоких
флюенсах облучения
Глава 14. Каскады атомных столкновений
Глава 15. Соотношение каскадной теории и
эксперимента
Глава 16. Типы ионно-радиационных
дефектов
Глава 17. Накопление дефектов и
аморфизация
Глава 18. Равновесный термический отжиг
имплантированных кристаллов.
Твердофазная рекристаллизация аморфных
слоев
Глава 19. Быстрая термообработка ионно-
имплантированных слоев
Глава 20. Температурные поля
Глава 21. Распределение внедренных примесей
при БТО с расплавлением слоя и без него
Глава 22. Методы измерения параметров
Имплантированных слоев
Литература
Рекомендуемая литература

Отзывы

Вопросы

Поделитесь своим мнением об этом товаре с другими покупателями — будьте первыми!

Дарим бонусы за отзывы!

За какие отзывы можно получить бонусы?

За уникальные, информативные отзывы, прошедшие модерацию

Как получить больше бонусов за отзыв?

Публикуйте фото или видео к отзыву
Пишите отзывы на товары с меткой "Бонусы за отзыв"

Правила начисления бонусов

Задайте вопрос, чтобы узнать больше о товаре

Если вы обнаружили ошибку в описании товара «Ионная и фотонная обработка материалов» (авторы: Комаров Фадей Фадеевич, Константинов Станислав Валерьевич), то выделите её мышкой и нажмите Ctrl+Enter. Спасибо, что помогаете нам стать лучше!